打造属于自己的光刻产品

打造属于自己的光刻产品cad工程图,官商风月,2012高清迅雷下载, 江苏邳州经济开发区泰山路西侧坐落着一家并不起眼的企业——徐州博康信息化学品有限公司，近段时间以来，这个占地近200亩的小工厂却成为资本市场追逐的目标之一。 从8

江苏邳州经济开发区泰山路西侧坐落着一家并不起眼的企业——徐州博康信息化学品有限公司，近段时间以来，这个占地近200亩的小工厂却成为资本市场追逐的目标之一。

从8月11日到9月11日，短短一个月时间内，华为旗下深圳哈勃科技投资合伙企业向徐州博康新增投资3亿元，成为华为哈勃最大单笔半导体产业链投资；上市公司华懋科技发布公告，通过参与设立的产业基金东阳凯阳科技创新发展合伙企业（有限合伙）对徐州博康进行投资。

科技巨头和上市公司为何把目光投向江苏邳州这家企业？

“我们自成立至今，一直专注于光刻胶原材料到成品的自主研发及生产。先后攻克了有效去除光刻胶单体金属离子和产品纯化工艺等多项难题，填补了国内在该项技术上的空白。”徐州博康董事长傅志伟说，资本市场看好徐州博康，既是上市公司对发展光刻胶产业的一种战略布局，更是对徐州博康光刻胶领域自主研发成果的认可。

找准技术突破口

走进徐州博康产品展厅，一排排装满液体的褐色玻璃瓶罐摆放在展台上，标注着光刻胶单体、树脂、光引发剂等光刻胶组成材料名称，引人注目。

“过去这些光刻胶材料我们高价买不来。现在我们在光刻胶材料研发领域取得突破，很多国外厂商反过来向我们订购产品。”傅志伟端起一瓶单体试剂告诉记者，如果把芯片比作电子信息产业的皇冠，那光刻技术就是皇冠上的明珠，而作为芯片研发的重要材料——光刻胶，一直被发达国家攥在手里，成为制约我国芯片产业发展的“卡脖子”环节之一。

“我们把光刻胶单体作为突破口，心无旁骛专注研发，脚踏实地做产品产业化，成功实现了光刻胶单体的自主研发及生产。”傅志伟说，企业当时在没有经验、缺少专业技术人才、缺失关键上游原材料的条件下启动研发及生产，虽然经历曲折坎坷，但横下一条心就一定能做成。

“光刻胶的研发，关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。”徐州博康信息化学品有限公司生产总监刘司飞参与了公司光刻胶单体量产、树脂研发以及配胶的全链条工作，他感慨地说，能够参与其中感觉很骄傲、很自豪，累并快乐着。

为了让光刻胶单体材料实现从实验室小批量到生产线吨位级生产并品质稳定，刘司飞曾和研发团队一起立下技术攻关军令状，半年时间吃住在公司，没日没夜地试验，最终实现了193纳米单体产品金属离子含量由100ppb降到了10ppb，纯化提高了10倍，满足智能手机芯片等集成电路对于光刻胶的需求。

江苏邳州经济开发区泰山路西侧坐落着一家并不起眼的企业——徐州博康信息化学品有限公司，近段时间以来，这个占地近200亩的小工厂却成为资本市场追逐的目标之一。

从8月11日到9月11日，短短一个月时间内，华为旗下深圳哈勃科技投资合伙企业向徐州博康新增投资3亿元，成为华为哈勃最大单笔半导体产业链投资；上市公司华懋科技发布公告，通过参与设立的产业基金东阳凯阳科技创新发展合伙企业（有限合伙）对徐州博康进行投资。

科技巨头和上市公司为何把目光投向江苏邳州这家企业？

“我们自成立至今，一直专注于光刻胶原材料到成品的自主研发及生产。先后攻克了有效去除光刻胶单体金属离子和产品纯化工艺等多项难题，填补了国内在该项技术上的空白。”徐州博康董事长傅志伟说，资本市场看好徐州博康，既是上市公司对发展光刻胶产业的一种战略布局，更是对徐州博康光刻胶领域自主研发成果的认可。

找准技术突破口

走进徐州博康产品展厅，一排排装满液体的褐色玻璃瓶罐摆放在展台上，标注着光刻胶单体、树脂、光引发剂等光刻胶组成材料名称，引人注目。

“过去这些光刻胶材料我们高价买不来。现在我们在光刻胶材料研发领域取得突破，很多国外厂商反过来向我们订购产品。”傅志伟端起一瓶单体试剂告诉记者，如果把芯片比作电子信息产业的皇冠，那光刻技术就是皇冠上的明珠，而作为芯片研发的重要材料——光刻胶，一直被发达国家攥在手里，成为制约我国芯片产业发展的“卡脖子”环节之一。

“我们把光刻胶单体作为突破口，心无旁骛专注研发，脚踏实地做产品产业化，成功实现了光刻胶单体的自主研发及生产。”傅志伟说，企业当时在没有经验、缺少专业技术人才、缺失关键上游原材料的条件下启动研发及生产，虽然经历曲折坎坷，但横下一条心就一定能做成。

“光刻胶的研发，关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。”徐州博康信息化学品有限公司生产总监刘司飞参与了公司光刻胶单体量产、树脂研发以及配胶的全链条工作，他感慨地说，能够参与其中感觉很骄傲、很自豪，累并快乐着。

为了让光刻胶单体材料实现从实验室小批量到生产线吨位级生产并品质稳定，刘司飞曾和研发团队一起立下技术攻关军令状，半年时间吃住在公司，没日没夜地试验，最终实现了193纳米单体产品金属离子含量由100ppb降到了10ppb，纯化提高了10倍，满足智能手机芯片等集成电路对于光刻胶的需求。

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